FanoCore™ 超高密度扇出型晶圆级封装平台

FanoCore™ 超高密度扇出型晶圆级封装平台

FanoCore™ Ultra-HD Fan-Out WLP – 面向2.5D/3D异构集成的下一代扇出型晶圆级封装解决方案
FanoCore™ 采用 2 µm/2 µm 线宽线距的第五代再分布层(RDL)技术与多芯片嵌入式桥接(EMIB)架构,在 12 英寸重构晶圆上实现 ≤ 0.8 mm 封装厚度及 > 1 Tb/s·mm 边沿带宽,为移动 SoC、HPC、车载与射频器件提供高良率、低翘曲、低成本的异构集成路径。
YCHIPWAY
产品尺寸:12 英寸(300 mm)重构晶圆级封装
应用领域:面向 5G/6G 射频前端模组,以及汽车雷达、AI 加速器芯片的高密度异构集成
详细介绍

产品概述
FanoCore™ 平台通过将芯片先嵌入模塑料重构晶圆,再于晶圆表面制作多层精细 RDL,实现 I/O 扇出而不需传统载板。平台兼容 40 mm × 40 mm 以下封装尺寸,支持 2/3/4 层 RDL 堆栈与背面 RDL 工艺,可在同一重构片上完成多芯片、无源器件、硅电容及 TSV-less 高频互连,实现“晶圆级封装 + 2.5D 性能”的融合。

产品应用
• 移动与可穿戴:旗舰 AP、PMIC、RF FEM 模组
• 高性能计算:GPU/CPU + HBM 合封、Chiplet 异构 SoC
• 汽车电子:77 GHz 雷达 SoC、车载 AI 加速器
• 射频与毫米波:AiP 天线模组、5G/6G 基站收发器

技术特性

  1. 超高密度 RDL:2 µm/2 µm L/S,12 µm 微凸点节距,支持 8,000+ I/O

  2. 低翘曲控制:应力平衡叠构 + 模塑料配方,翘曲 < 80 µm@300 mm

  3. 热/电协同设计:> 200 W 热设计功耗路径,RDL 铜厚 8 µm 降低 IR Drop

  4. 可靠性等级:通过 JEDEC J-STD-020 MSL-3、-55 °C ~ 150 °C 1,000 次 TC、uHAST 96 h

  5. 制造规模:12 英寸量产线,月产能 > 60 k 片,良率 > 98 %

  6. 兼容 UCIe/BoW 接口:可无缝集成 Chiplet 生态,支持 Die-to-Die < 0.5 pJ/bit

FanoCore™ 以晶圆级精度赋能系统级创新,为客户在尺寸、性能、成本与可靠性之间提供最优折中。

面向下一代计算的Chiplet异构集成一站式解决方案
UltraVia™:面向先进封装的硅通孔3D矩阵互连系统
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